丹東新東方晶體儀器有限公司
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在進行金相腐蝕之前,應先將晶體端面用80#金剛砂在平板玻璃上濕磨,使在端面上解理出無數微小的解理坑,洗凈后,按指定的腐蝕工藝條件進行腐蝕。
硅單晶定向實驗用的單晶材料,在5%的NaOH水溶液中沸騰煮7分鐘.經過金相腐蝕的硅單晶晶面,腐蝕坑底的平面是垂直于上述相應晶軸的晶面,而其邊緣上的幾個側面則為另一些具有特定的結晶學指數的晶面族,這些側面按軸對稱的規律圍繞著腐蝕坑的底面,從而構成各種具有特殊對稱性的腐蝕坑構造.腐蝕坑的直徑大約為10μ的數量級,而激光束的直徑為1mm,因而同一束激光可以照射到許多腐蝕坑上。每一腐蝕坑在表面上的分布雖然是不規則的,但每個腐蝕坑均具有嚴格的軸對稱性,因而它們每一個相應的側面都取相同的方向,從而將平行的入射光也反射在相同的方向。
如將一晶體置于激光定向儀的晶體夾具上,調整各個方位,使被測晶軸的方向與入射的激光軸相平行,于是,在光屏上就顯示出反映晶軸對稱性的特征光圖。
用腐蝕法處理獲得的特征光圖十分清晰,有利于提高定向精度。但晶錠的端面如果與被測晶向偏離太大,一般情況下如超過10。
則腐蝕坑的對稱性就被嚴重破壞了,顯示不出對稱形的光圖。這就限制了采用腐蝕法前處理工藝的定向范圍。